特許
J-GLOBAL ID：200903033468420610

被処理体の処理方法及び処理システム

発明者：
那須 勝行

那須 勝行 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-156783
公開番号（公開出願番号）：特開2008-311368
出願日： 2007年06月13日
公開日（公表日）： 2008年12月25日
要約：
【課題】結晶性や配向性が良好な多元系金属酸化物膜を得ることが可能な被処理体の処理方法を提供する。【解決手段】表面に酸化対象となる金属膜が形成されている被処理体Wの表面に、複数の有機金属原料を用いて多元系金属酸化物膜を形成するようにした被処理体の処理方法において、前記金属膜が形成されている前記被処理体に対して第1のチャンバ4a内で酸化処理を施すことにより前記金属膜を酸化して金属酸化膜100を形成する酸化工程と、前記金属酸化膜が形成された前記被処理体に対して前記第1のチャンバ4aとは異なる第2のチャンバ4b、4c内で成膜処理を施すことにより前記金属酸化膜上に前記多元系金属酸化物膜を形成する成膜工程と、を有する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
表面に酸化対象となる金属膜が形成されている被処理体の表面に、複数の有機金属原料を用いて多元系金属酸化物膜を形成するようにした被処理体の処理方法において、 前記金属膜が形成されている前記被処理体に対して第1のチャンバ内で酸化処理を施すことにより前記金属膜を酸化して金属酸化膜を形成する酸化工程と、 前記金属酸化膜が形成された前記被処理体に対して前記第1のチャンバとは異なる第2のチャンバ内で成膜処理を施すことにより前記金属酸化膜上に前記多元系金属酸化物膜を形成する成膜工程と、 を有することを特徴とする被処理体の処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/365 ,  C23C 16/54 ,  C23C 16/40
FI (3件)：
H01L21/365 ,  C23C16/54 ,  C23C16/40
Fターム (27件)：
4K030BA01 ,  4K030BA14 ,  4K030BA18 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA01 ,  4K030EA04 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030HA04 ,  4K030JA10 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AE21 ,  5F045AF07 ,  5F045AF08 ,  5F045DP03 ,  5F045EF05 ,  5F045EK13 ,  5F045EN04
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 処理装置及びその使用方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-354476   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
  • 成膜装置及びその使用方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-329857   出願人：東京エレクトロン株式会社, 富士電機株式会社
  • CVD成膜方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-354603   出願人：東京エレクトロン株式会社
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