特許
J-GLOBAL ID：200903033725277890

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

発明者：
椿 英明

椿 英明 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-200247
公開番号（公開出願番号）：特開2009-258585
出願日： 2008年08月01日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】現像欠陥が低減されたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)光酸発生剤、及び(C)溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)一般式(I-a)で表される酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、 (B)光酸発生剤、及び (C)溶剤 を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/18
FI (5件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/18
Fターム (35件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD05 ,  2H025AD07 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA16 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  2H096JA04 ,  2H096JA08 ,  4J100AL08P ,  4J100BA15P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (9件)
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