レチクルに依存しないレチクル・ステージの較正

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-276289
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101615
出願日： 2004年09月24日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】リソグラフィ・システムのレチクル・ステージを較正するシステム、装置、および方法を提供すること。【解決手段】本発明の方法は、リソグラフィ・システムによってレチクルを結像させるステップ、結像させたレチクルに基づいて1組の高さオフセットを測定するステップ、および複数の歪みファクタに従って測定した1組の高さオフセットを分解するステップを含む。本発明はさらに、歪みファクタおよびレチクル変形特性に基づいてレチクル・ステージ変形特性を決定するステップ、次いでレチクル・ステージ変形特性に基づいてレチクル・ステージを較正するステップを含む。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

リソグラフィ・システムのレチクル・ステージを較正する方法であって、レチクルを通して投影ビームを導き、それによって前記リソグラフィ・システムが前記レチクルのイメージを生成するようにするステップと、前記レチクルのイメージに基づいて1組の高さオフセットを測定するステップと、複数の歪みファクタに従って、測定した前記1組の高さオフセットを分解するステップと、前記歪みファクタに基づいてレチクル変形特性を決定するステップと、前記歪みファクタおよび前記レチクルの変形特性に基づいてレチクル・ステージ変形特性を決定するステップと、前記レチクル・ステージの変形特性に基づいて前記レチクル・ステージを較正するステップとを含むレチクル・ステージ較正方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G01B11/02 , G01B11/16 , G03F7/20

FI (5件)：

H01L21/30 515F , G01B11/02 H , G01B11/16 H , G03F7/20 521 , H01L21/30 516B

Fターム (23件)：

2F065AA24 , 2F065BB27 , 2F065CC00 , 2F065CC18 , 2F065EE00 , 2F065FF02 , 2F065FF10 , 2F065HH04 , 2F065HH15 , 2F065JJ03 , 2F065MM03 , 2F065PP02 , 2F065PP12 , 2F065QQ13 , 2F065QQ17 , 5F046BA04 , 5F046CB17 , 5F046CC02 , 5F046CC13 , 5F046DA05 , 5F046DB01 , 5F046DB05 , 5F046DC12

引用特許：

審査官引用 (5件)

位置歪み補正装置、露光システム、露光方法及び位置歪み補正プログラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-089376 出願人：株式会社東芝
露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-342841 出願人：キヤノン株式会社
走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-352242 出願人：キヤノン株式会社

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