特許
J-GLOBAL ID:200903034111998237
銅裏面金属構造を備えるGaAs薄型ダイ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
桑垣 衛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-557131
公開番号(公開出願番号):特表2006-517054
出願日: 2003年09月30日
公開日(公表日): 2006年07月13日
要約:
薄型GaAs基板(310)に銅裏面金属層(340)を設けてGaAs基板を従来のプラスチックパッケージング技術を使用してパッケージングすることができるようにする。GaAs基板に銅裏面金属層を設けることにより、GaAs基板を2ミル(約50ミクロン)未満に薄くできるので、熱放散の問題を軽減することができ、かつ半導体ダイに軟質はんだ技術を適用することができる。プラスチックパッケージへの半導体ダイのパッケージングを可能にすることにより、コストを大きく減らすことができる。
請求項(抜粋):
50ミクロン未満の厚さを有するGaAs基板であって、能動表面及び裏面を有するGaAs基板と、
前記裏面上に重なる拡散バリア層と、
銅を含み、かつ前記拡散バリア上に重なる裏面金属層と、
GaAs基板を封止するプラスチック製のダイパッケージとを含む半導体装置。
IPC (3件):
H01L 21/52
, H01L 21/28
, H01L 29/41
FI (3件):
H01L21/52 A
, H01L21/28 301B
, H01L29/44 L
Fターム (9件):
4M104AA05
, 4M104BB04
, 4M104BB09
, 4M104BB32
, 4M104FF02
, 4M104FF18
, 5F047AA11
, 5F047BA06
, 5F047CA01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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樹脂封止型半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-026711
出願人:株式会社日立製作所
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半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-123488
出願人:三洋電機株式会社
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半導体装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-230436
出願人:エヌイーシー化合物デバイス株式会社
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半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-044408
出願人:松下電器産業株式会社
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特開平4-225536
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引用文献:
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