特許
J-GLOBAL ID：200903034196683990

成膜方法

発明者：
茅野 祐治

茅野 祐治 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-301314
公開番号（公開出願番号）：特開2009-129606
出願日： 2007年11月21日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：
【課題】画像表示領域を取り巻く周辺領域の狭小化を可能としながら、画像表示領域内の全画素が略同量の機能性物質を保持し得る成膜方法を提供する。【解決手段】本発明に係る成膜方法は、画像表示領域7aに機能性物質を含む溶質とその溶媒とを含む第1材料(図中18PD参照)を塗布する工程と、周辺領域93aに少なくとも前記溶媒と同一の材料を含む第2材料(図中185PD参照)を塗布する工程と、第1材料中の溶媒及び第2材料中の材料をともに蒸発させる工程と、を備える。第2材料の塗布量は、仮に、周辺領域93aにダミー画素が設けられ、その形成領域に第2材料が塗布されるとした場合における当該第2材料の量に基づいて定められる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板上の第1領域内且つ当該第1領域を所定数に分割する小領域ごとに、機能性物質を含む溶質とその溶媒とを含む第1材料を塗布する第1塗布工程と、 少なくとも前記溶媒と同一の材料を含む第2材料を、前記第1領域を取り囲むように、前記基板上に塗布する第2塗布工程と、 前記第1材料中の前記溶媒及び前記第2材料中の前記材料をともに蒸発させる蒸発工程と、 を備え、 前記第2塗布工程は、 前記第2材料が、 前記第1領域の最外郭に位置する或る1つの前記小領域に接続する、当該第1領域外の第2領域に、かつ、その体積が前記小領域の1つについて塗布される前記第1材料の単位的体積に基づいて定められる値に一致するように、 塗布される工程、 を含んで実施される、 ことを特徴とする成膜方法。
IPC (8件)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 ,  G09F 9/30 ,  H01L 27/32 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22 ,  B05D 3/00
FI (8件)：
H05B33/10 ,  G09F9/00 342Z ,  G09F9/30 338 ,  G09F9/30 365Z ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z ,  B05D3/00 D
Fターム (27件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC31 ,  3K107CC43 ,  3K107CC45 ,  3K107DD89 ,  3K107EE07 ,  3K107GG08 ,  4D075AC06 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075DC24 ,  5C094AA15 ,  5C094AA55 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094FB01 ,  5C094GB10 ,  5G435AA18 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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