特許
J-GLOBAL ID：200903041078183008
成膜方法および成膜装置、画素基板および電気光学装置、並びに電子機器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-233066
公開番号（公開出願番号）：特開2006-051412
出願日： 2004年08月10日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
【課題】 非膜形成領域に不要な物(膜)を残さずに膜形成領域における膜厚ムラを防止することができる成膜方法および成膜装置、画素基板および電気光学装置、並びに電子機器を提供すること。【解決手段】 基板W上の膜形成領域1に機能液を液滴として吐出すると略同時または前に、膜形成領域1の周辺域8(非膜形成領域)に機能液の液媒体と同一または略同等の蒸気圧を有する溶媒を塗布する。この場合、機能液中の液媒体を蒸発させる乾燥工程で液媒体が蒸散するまで溶媒が残存するように溶媒を塗布する。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
基板上の膜形成領域に機能性材料からなる膜を形成する成膜方法であって、
前記基板上の前記膜形成領域に機能液を液滴として吐出する吐出工程と、
前記機能液の液媒体と同一または略同等の蒸気圧を有する溶媒を前記膜形成領域の周辺域に塗布する溶媒塗布工程と、
吐出された前記機能液の前記液媒体を蒸発させる乾燥工程と、
を備えたことを特徴とする成膜方法。
IPC (4件)：
B05D 1/26
, B05C 5/00
, B05D 3/10
, G02B 5/20
B05D1/26 Z
, B05C5/00 101
, B05D3/10 H
, G02B5/20 101
2H048BA02
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 2H091FA02Y
, 2H091FC12
, 2H091FC29
, 2H091FD04
, 2H091FD24
, 2H091GA16
, 2H091LA11
, 2H091LA12
, 2H091LA15
, 2H091LA18
, 4D075AC06
, 4D075BB24Z
, 4D075BB57Z
, 4D075DA06
, 4D075DA32
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA13
, 4F041BA51
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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