特許
J-GLOBAL ID：200903034303534919
リソグラフィのための能動ファセットミラーシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-328740
公開番号（公開出願番号）：特開2006-140504
出願日： 2005年11月14日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：
【課題】様々なフォトリソグラフィ製造要求に合うように費用効率よく調整されることができる、リソグラフィシステム内で使用するための能動ファセットミラーシステムを提供する。【解決手段】能動ファセットミラーシステムは、複数の能動ファセットミラーデバイスと、ベースプレート205と、複数のピン340とを有している。各能動ファセットミラーデバイスは、反射面を備えたミラー基板310と、支持孔330と、アクチュエータターゲット315と、宝石軸受335と、ミラー基板を支持するためのフレクシャ320とを有する。複数のファセット制御装置は、所望の照明効果を提供するために能動ファセットミラーデバイスの位置を制御する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
能動ファセットミラーシステムにおいて、
複数の能動ファセットミラーデバイスが設けられており、各能動ファセットミラーデバイスに、ミラー基板が設けられており、該ミラー基板が、該ミラー基板の裏側に配置されたミラー基板支持孔を有しており、前記ミラー基板の前側に配置された反射面が設けられており、前記ミラー基板の裏側に配置された少なくとも2つのアクチュエータターゲットが設けられており、
前記複数の能動ファセットミラーデバイスを取り付けるためのベースプレートが設けられており、該ベースプレートに、前記ミラー基板を位置決めするための前記複数の能動ファセットミラーデバイスのそれぞれのための前記少なくとも2つのアクチュエータターゲットに対応する少なくとも2つのアクチュエータが設けられており、複数のベースプレート支持孔が設けられており、
前記ミラー基板を支持するための手段が設けられており、該手段が前記ミラー基板と前記ベースプレートとに結合されており、
前記複数の能動ファセットミラーデバイスのそれぞれを取り付ける複数のピンが設けられており、前記複数のピンの中の1つのピンが、前記複数のベースプレート支持孔のそれぞれと、前記複数のミラー基板支持孔の対応するミラー基板支持孔とに位置決めされていることを特徴とする、能動ファセットミラーシステム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 17/00
H01L21/30 531A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 517
, G02B17/00 Z
2H087KA21
, 2H087NA01
, 2H087NA04
, 2H087TA02
, 2H087TA03
, 2H087TA08
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046CB13
, 5F046CB23
, 5F046DA01
, 5F046GA03
, 5F046GB01
