特許
J-GLOBAL ID：200903034562922455
金属・有機化学気相成長によって成長した非極性a平面窒化ガリウム薄膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-586402
公開番号（公開出願番号）：特表2005-522889
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
平坦な表面を有する非極性(1120)a平面の窒化ガリウム(GaN)フィルムが、非極性(1120)a平面GaN薄膜の高温成長の前に、低温核生成層を緩衝層として使用することによって、(1102)r平面サファイア基板上で成長される。本発明は、デバイス品質の、非極性のa平面GaN薄膜を、MOCVDを介して、r平面サファイア基板上で成長させるための方法を記載する。本発明は、分極により誘導される効果のない、窒化物ベースのデバイスのための経路を提供する。なぜなら、非極性のa平面GaN薄膜の成長方向は、極性のc軸に対して垂直であるからである。分極により誘導される電場は、存在する場合、非極性のa平面GaN薄膜上で成長する(Al,B,In,Ga)Nデバイス層に対して、最小の影響を有する。
請求項（抜粋）：
非極性のa平面窒化ガリウム薄膜を、r平面基板上で、金属・有機化学気相成長によって成長させる方法であって、以下の工程:
(a)該基板をアニールする工程;
(b)窒化物ベースの核生成層を、該基板上に堆積させる工程;
(c)該非極性のa平面窒化ガリウムフィルムを、該核生成層上で成長させる工程;および
(d)窒素の過剰圧力下で、該非極性のa平面窒化ガリウムフィルムを冷却する工程、
を包含する、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
4G077AA03
, 4G077BE15
, 4G077DB08
, 4G077EF03
, 4G077HA02
, 5F045AA04
, 5F045AB14
, 5F045AC08
, 5F045AC12
, 5F045AF09
, 5F045AF13
, 5F045CA02
, 5F045CA07
, 5F045CA09
, 5F045DA67
, 5F045EE12
, 5F045EJ01
