特許
J-GLOBAL ID：200903034889088246
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-079362
公開番号（公開出願番号）：特開2006-259508
出願日： 2005年03月18日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】解像力、真空中PED特性、ラインエッジラフネス、現像欠陥、アウトガスを同時に満足し、特にEUV光使用時における感度、溶解コントラストに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)少なくとも、炭素数2〜20のフッ素化アルキルスルホン酸アニオン、ビス(アルキルスルホニル)アミドアニオン又はトリス(アルキルスルホニル)メチドアニオンを対イオンとするスルホニウム塩構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸、ビス(アルキルスルホニル)アミド又はトリス(アルキルスルホニル)メチンを発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(A1)で表される繰り返し単位及び一般式(A2)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種類の繰り返し単位と、炭素数2〜20のフッ素化アルキルスルホン酸アニオン、ビス(アルキルスルホニル)アミドアニオン又はトリス(アルキルスルホニル)メチドアニオンを対イオンとするスルホニウム塩構造を有する繰り返し単位とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び
(B)活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸、ビス(アルキルスルホニル)アミド又はトリス(アルキルスルホニル)メチンを発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB42
, 2H025CB45
, 2H025FA17
