特許
J-GLOBAL ID:200903045383755440
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-367971
公開番号(公開出願番号):特開2006-171656
出願日: 2004年12月20日
公開日(公表日): 2006年06月29日
要約:
【課題】 形状の良好なレジストパターンを形成できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分(A)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、放射線の照射により酸を発生する酸発生基を有する構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分(A)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)が、放射線の照射により酸を発生する酸発生基を有する構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (4件):
G03F 7/004
, C08F 228/00
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F7/004 503A
, C08F228/00
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (23件):
2H025AA00
, 2H025AA03
, 2H025AC04
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025FA03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03R
, 4J100BA50S
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC43S
, 4J100BC53Q
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
全件表示
前のページに戻る