電子線を用いた試料観察装置および方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-096411
公開番号（公開出願番号）：特開2006-194907
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：

【課題】薄膜化した試料に電子線を照射して観察、特にX線検出による元素分析を、背景雑音を低減して高精度、高分解能で行える試料観察装置および試料観察方法を実現することを目的とする。【解決手段】薄膜試料の直後に孔部を有する軽元素材料からなる部材56を配置して、電子線8で該試料22の特定部位を観察する。【効果】本発明により、薄膜試料に電子線を照射して観察する際に、該試料以外の部分から発生するX線、および、該試料以外の箇所で散乱されて再び該試料に入射する電子線を低減できる。これにより高精度、高感度な2次電子像観察および元素分析が可能となり、一段と微細化が進むLSIデバイス等の内部観察等を、高精度、高分解能で実施できる試料観察装置および試料観察方法を提供できる。【選択図】図12

請求項（抜粋）：

電子源、電子ビームを集束するレンズ、電子ビームを走査する偏向器と、試料に電子ビームを照射するための対物レンズと、試料を載置する試料台と、電子ビームを試料片に照射して試料片から発生するX線を検出するX線検出器と、試料片を保持する第1の保持器と、前記試料台と前記第1の保持器の間に設けた軽元素材料を含みX線を低減する部材から成る遮蔽部材と、前記遮蔽部材を保持する第2の保持器と、を有することを特徴とする電子線を用いた試料観察装置。

IPC (5件)：

G01N 23/225 , G01N 1/32 , G01N 1/28 , G01N 1/00 , H01J 37/252

FI (5件)：

G01N23/225 , G01N1/32 B , G01N1/28 G , G01N1/00 101B , H01J37/252 A

Fターム (47件)：

2G001AA03 , 2G001AA05 , 2G001AA10 , 2G001BA05 , 2G001BA06 , 2G001BA07 , 2G001BA15 , 2G001BA30 , 2G001CA01 , 2G001CA03 , 2G001CA10 , 2G001DA01 , 2G001DA06 , 2G001GA01 , 2G001GA04 , 2G001GA05 , 2G001GA06 , 2G001GA16 , 2G001JA12 , 2G001JA14 , 2G001KA01 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001NA03 , 2G001NA06 , 2G001NA07 , 2G001NA16 , 2G001NA17 , 2G001PA07 , 2G001PA11 , 2G001PA12 , 2G001PA14 , 2G001PA15 , 2G001PA30 , 2G001QA01 , 2G001QA02 , 2G001RA04 , 2G001RA20 , 2G001SA02 , 2G001SA10 , 2G052AD32 , 2G052CA04 , 2G052CA46 , 2G052EC14 , 2G052EC16 , 2G052GA34 , 5C033PP02

引用特許：

出願人引用 (1件)

TEM評価試料及びその作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-064070 出願人：三菱電機株式会社

審査官引用 (10件)

断面観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-133711 出願人：株式会社日立製作所
特開昭58-164135
集束イオンビームを用いた試料加工方法、及び集束イオンビーム加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-193878 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ

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