特許
J-GLOBAL ID:200903034960595057

硫酸基の脱離を抑えた硫酸化多糖の低分子化物およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 田中 光雄 ,  山崎 宏 ,  元山 忠行 ,  冨田 憲史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-050534
公開番号(公開出願番号):特開2008-266299
出願日: 2008年02月29日
公開日(公表日): 2008年11月06日
要約:
【課題】安価かつ短時間の処理で済み、しかも分子量制御が容易で、低分子化後の硫酸基保持率が高い、低分子化フコイダンの製造方法、およびかかる方法により得られる低分子化フコイダンを提供する。【解決手段】硫酸基の脱離を伴わない低分子化フコイダンの製造方法であって、硫酸基が脱離しない水熱条件下にフコイダンの水溶液を保持することを特徴とする方法、フコイダンの水溶液のpHを中性付近〜アルカリ性に調整後、硫酸基が脱離しない水熱条件下にフコイダンの水溶液を保持することを特徴とする方法、ならびにこれらの方法により得ることのできる低分子化フコイダン。【選択図】なし
請求項(抜粋):
硫酸基の脱離を伴わない低分子化フコイダンの製造方法であって、硫酸基が脱離しない水熱条件下にフコイダンの水溶液を保持することを特徴とする方法。
IPC (2件):
C07H 3/06 ,  C08B 37/00
FI (2件):
C07H3/06 ,  C08B37/00 H
Fターム (10件):
4B018MD67 ,  4B018ME08 ,  4B018ME14 ,  4B018MF14 ,  4C057AA30 ,  4C057BB01 ,  4C057BB04 ,  4C090AA03 ,  4C090BC04 ,  4C090CA31
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)
引用文献:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る