特許
J-GLOBAL ID：200903035498268769

クリシェの製造方法及びパターン形成方法

発明者：
チョル-ホ・キム

チョル-ホ・キム について


出願人/特許権者：
エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド

エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド について


代理人 (5件)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-127023
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338806
出願日： 2005年04月25日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】インキとの接着力を向上させることができるクリシェの製造方法、及び印刷方式により1回の工程でパターンを形成することにより生産性を向上させると共に、パターンの厚さの均一性を向上させることができるパターン形成方法を提供する。【解決手段】クリシェの製造方法は、透明なガラス基板を備える段階と、ガラス基板上に金属膜を蒸着する段階と、金属膜をパターニングして第1の金属パターンを形成する段階と、第1の金属パターンをマスクにしてガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、第1の金属パターンをパターニングして第2の金属パターンを形成する段階と、第2の金属パターンをマスクにして第1の凸パターンをエッチングすることにより、第2の凸パターンを形成する段階とを含む。【選択図】図4E
請求項（抜粋）：
透明なガラス基板上に金属膜を蒸着する段階と、 前記金属膜をパターニングして第1の金属パターンを形成する段階と、 前記第1の金属パターンをマスクにして前記ガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、 前記第1の金属パターンをパターニングして第2の金属パターンを形成する段階と、 前記第2の金属パターンをマスクにして前記第1の凸パターンをエッチングすることにより、第2の凸パターンを形成する段階と、 を含むことを特徴とするクリシェの製造方法。
IPC (3件)：
G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/20 501 ,  G03F7/40 521 ,  H01L21/30 502D
Fターム (14件)：
2H096AA15 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096HA11 ,  2H096HA13 ,  2H096HA14 ,  2H096JA04 ,  2H096JA10 ,  2H097FA02 ,  2H097JA04 ,  2H097LA04 ,  2H097LA12 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (12件)
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