特許
J-GLOBAL ID:200903035521462608

酸化ニッケル粉末及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 正緒
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-042682
公開番号(公開出願番号):特開2009-196870
出願日: 2008年02月25日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
【課題】 電子部品材料として好適な、硫黄品位と塩素品位が低く、且つ微細な酸化ニッケル粉末と、それを工業的に安定的に製造する方法を提供する。【解決手段】 マグネシウムを含む塩化ニッケル水溶液をアルカリで中和し、得られた水酸化ニッケルを洗浄した後、450〜650°Cの温度で焙焼して酸化ニッケルとする。この酸化ニッケルを有機酸の水溶液で洗浄するか、洗浄と解砕を同時に行うことにより塩素を除去する。得られる酸化ニッケル粉末は、塩素品位が300質量ppm以下、及び比表面積が6〜12m2/gである。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
アルカリ土類金属を含む塩化ニッケル水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを洗浄する工程Bと、洗浄した水酸化ニッケルを熱処理して酸化ニッケルとする工程Cと、得られた酸化ニッケルを有機酸を含む水溶液で洗浄する工程Dとを含むことを特徴とする酸化ニッケル粉末の製造方法。
IPC (1件):
C01G 53/04
FI (1件):
C01G53/04
Fターム (5件):
4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD04 ,  4G048AE06
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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