特許
J-GLOBAL ID:200903035698898600
レジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-183640
公開番号(公開出願番号):特開2006-008737
出願日: 2004年06月22日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】 解像性やレジストパターン形状に優れるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。また、有機溶剤に対する溶解性に優れ、ディフェクトリスクを低減できるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を含有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、アルキル基を有さない単環または多環式のラクトン残基を含有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、下記一般式(3)で表される構成単位(a3)とを含有することを特徴とするレジスト組成物用重合体。【化1】【選択図】 なし
請求項(抜粋):
酸解離性溶解抑制基を含有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、
アルキル基を有さない単環または多環式のラクトン残基を含有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、
下記一般式(3)
IPC (4件):
C08F 220/28
, C08F 220/12
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (4件):
C08F220/28
, C08F220/12
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (28件):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100BC07P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100BC23Q
, 4J100BC53R
, 4J100BC55R
, 4J100CA03
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
引用特許: