特許

J-GLOBAL ID：200903018618187022

レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法

発明者： 百瀬 陽 ,  上田 昭史 ,  藤原 匡之
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-040174
公開番号（公開出願番号）：特開2005-097516
出願日： 2004年02月17日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等に用いた場合に、レジストの高い感度および解像度が損なわれることなく、レジスト溶液中でのマイクロゲル生成が抑制され、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用共重合体を提供する。【解決手段】 ラクトン骨格を有する単量体を含む単量体と、ラクトン類を含む重合溶剤とを使用し、該重合溶剤中における前記ラクトン類の存在比を重合反応の進行に伴って変化させることを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ラクトン骨格を有する単量体を含む2種以上の単量体と、ラクトン類を含む重合溶剤とを使用し、該重合溶剤中における前記ラクトン類の存在比を重合反応の進行に伴って変化させることを特徴とするレジスト用共重合体の製造方法。

IPC (4件)：

C08F2/06 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039

FI (4件)：

C08F2/06 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 601

Fターム (51件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J011AA05 ,  4J011AA07 ,  4J011AB11 ,  4J011AB13 ,  4J011BA02 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB09 ,  4J011BB12 ,  4J011HA06 ,  4J011HB02 ,  4J011HB06 ,  4J011HB14 ,  4J011HB22 ,  4J100AK31Q ,  4J100AK32Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AU29P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA40Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC52P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA30 ,  4J100FA37 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-130131   出願人：富士通株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-012406   出願人：住友化学工業株式会社
• レジスト用(共)重合体およびレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-392856   出願人：三菱レイヨン株式会社

審査官引用 (4件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-285761   出願人：富士写真フイルム株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-020618   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• 共重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-322533   出願人：三菱レイヨン株式会社
• レジスト用共重合体およびその製造方法、ならびにレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-340817   出願人：三菱レイヨン株式会社