特許
J-GLOBAL ID:200903035947036975
記憶素子及びメモリ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
角田 芳末
, 伊藤 仁恭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-350113
公開番号(公開出願番号):特開2008-160031
出願日: 2006年12月26日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】熱安定性に優れ、書き込み電流を低減することができる記憶素子を提供する。【解決手段】情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層17を有し、この記憶層17に対して絶縁体から成る中間層を介して磁化固定層31が設けられ、積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、記憶層17の磁化M1の向きが変化して、記憶層17に対して情報の記録が行われ、記憶層17を構成する強磁性層の比抵抗が8×10-7Ω・m以上である記憶素子3を構成する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層を有し、
前記記憶層に対して、中間層を介して磁化固定層が設けられ、
前記中間層が、絶縁体から成り、
積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、前記記憶層の磁化の向きが変化して、前記記憶層に対して情報の記録が行われ、
前記記憶層を構成する強磁性層の比抵抗が、8×10-7Ω・m以上である
ことを特徴とする記憶素子。
IPC (3件):
H01L 21/824
, H01L 27/105
, H01L 43/08
FI (2件):
H01L27/10 447
, H01L43/08 M
Fターム (43件):
4M119AA01
, 4M119AA03
, 4M119AA07
, 4M119BB01
, 4M119CC05
, 4M119DD06
, 4M119DD08
, 4M119DD09
, 4M119DD33
, 4M119DD45
, 4M119DD55
, 4M119EE22
, 4M119EE27
, 4M119FF05
, 4M119JJ03
, 4M119JJ09
, 5F092AA08
, 5F092AB08
, 5F092AC12
, 5F092AD03
, 5F092AD25
, 5F092BB04
, 5F092BB10
, 5F092BB17
, 5F092BB18
, 5F092BB22
, 5F092BB23
, 5F092BB33
, 5F092BB34
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB37
, 5F092BB42
, 5F092BB43
, 5F092BC04
, 5F092BC07
, 5F092BC42
, 5F092BE21
, 5F092BE24
, 5F092BE25
, 5F092CA23
, 5F092CA26
, 5F092EA06
引用特許:
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