特許
J-GLOBAL ID:200903035947036975

記憶素子及びメモリ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 角田 芳末 ,  伊藤 仁恭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-350113
公開番号(公開出願番号):特開2008-160031
出願日: 2006年12月26日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】熱安定性に優れ、書き込み電流を低減することができる記憶素子を提供する。【解決手段】情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層17を有し、この記憶層17に対して絶縁体から成る中間層を介して磁化固定層31が設けられ、積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、記憶層17の磁化M1の向きが変化して、記憶層17に対して情報の記録が行われ、記憶層17を構成する強磁性層の比抵抗が8×10-7Ω・m以上である記憶素子3を構成する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層を有し、 前記記憶層に対して、中間層を介して磁化固定層が設けられ、 前記中間層が、絶縁体から成り、 積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、前記記憶層の磁化の向きが変化して、前記記憶層に対して情報の記録が行われ、 前記記憶層を構成する強磁性層の比抵抗が、8×10-7Ω・m以上である ことを特徴とする記憶素子。
IPC (3件):
H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  H01L 43/08
FI (2件):
H01L27/10 447 ,  H01L43/08 M
Fターム (43件):
4M119AA01 ,  4M119AA03 ,  4M119AA07 ,  4M119BB01 ,  4M119CC05 ,  4M119DD06 ,  4M119DD08 ,  4M119DD09 ,  4M119DD33 ,  4M119DD45 ,  4M119DD55 ,  4M119EE22 ,  4M119EE27 ,  4M119FF05 ,  4M119JJ03 ,  4M119JJ09 ,  5F092AA08 ,  5F092AB08 ,  5F092AC12 ,  5F092AD03 ,  5F092AD25 ,  5F092BB04 ,  5F092BB10 ,  5F092BB17 ,  5F092BB18 ,  5F092BB22 ,  5F092BB23 ,  5F092BB33 ,  5F092BB34 ,  5F092BB35 ,  5F092BB36 ,  5F092BB37 ,  5F092BB42 ,  5F092BB43 ,  5F092BC04 ,  5F092BC07 ,  5F092BC42 ,  5F092BE21 ,  5F092BE24 ,  5F092BE25 ,  5F092CA23 ,  5F092CA26 ,  5F092EA06
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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