特許
J-GLOBAL ID:200903036355473244

反射型電子線回折装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平山 一幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-100134
公開番号(公開出願番号):特開2000-292378
出願日: 1999年04月07日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 並行して合成される100μm×100μm以下の薄膜構造を識別し得るようにした、反射型電子線回折装置を提供する。【解決手段】 反射型電子回折装置10は電子線源11が電界放射型エミッタであって、対物絞りと基板との間に、最終絞り15が配設されており、上記電子線源11から対物絞り13までの領域が、第一のケーシング21により高度の真空に保持され、上記対物絞り13から最終絞り15までの領域が中程度の真空に保持されると共に、上記対物絞りと最終絞りとの間に軸合わせ電極14が、上記最終絞りと基板との間に非点補正電極16が、上記最終絞りと基板との間に走査偏向電極17が、それぞれ配設されており、上記基板からスクリーンまでの距離が50mm以下であるように、反射型電子線回折装置10を構成する。
請求項(抜粋):
電子線源と、回折像を撮すスクリーンと、電子線源からの電子線ビームを試料に集束させる電子光学系対物レンズと、この電子光学系対物レンズの領域に配設された対物絞りとを有する反射型電子線回折装置において、上記電子線源と上記対物絞りとを有する第1のケーシングと、この第1のケーシングの対物絞り側に設け最終絞りを有する第2のケーシングとを備え、上記第1のケーシングと上記第2のケーシングとが差動排気構造を有して第1のケーシングを低圧力に保持するとともに、上記電子線源が電界放射型エミッタであることを特徴とする、反射型電子線回折装置。
IPC (2件):
G01N 23/20 ,  H01J 37/285
FI (2件):
G01N 23/20 ,  H01J 37/285
Fターム (19件):
2G001AA03 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA09 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001HA12 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA04 ,  2G001JA14 ,  2G001KA08 ,  2G001KA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA07 ,  2G001SA02 ,  2G001SA04
引用特許:
審査官引用 (40件)
  • 実時間表面モニター装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-223614   出願人:光技術研究開発株式会社, 三菱電機株式会社
  • 特開平1-175156
  • 特開平1-175156
全件表示

前のページに戻る