特許
J-GLOBAL ID：200903036450143537

電子ビーム描画方法および電子ビーム描画装置

発明者：
高橋 弘之

高橋 弘之 について

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安藤 公明

安藤 公明 について

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依田 晴夫

依田 晴夫 について

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由井 敬清

由井 敬清 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について

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キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-266635
公開番号（公開出願番号）：特開2006-086182
出願日： 2004年09月14日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】各ビームが描画するパターンの中心座標シフト補正を行う場合、μフィールド自体の形状を補正することが不可能である。そのため、中心座標は正しい位置に補正たとしてもμフィールド間の接続ずれが生じ正しいパターンを描画することができない。【解決手段】格子状に配列された複数のビームを生成する手段と描画パターンをビームのオンオフ情報に変換する手段と複数のビームを個別にON/OFFする手段と複数のビームの格子形状の補正量を求める手段と複数のビームの照射位置を独立に制御し複数ビームの格子形状を補正する手段と格子状に配列された複数のビームの照射位置を一斉に偏向する手段と一斉に偏向する際の偏向形状を補正する手段を具備し、複数ビームの格子形状および一斉偏向形状を補正しながら描画を行うことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の電子ビームを用いて描画を行う電子ビーム描画方法において、 格子状に配列される前記複数の電子ビームを生成する手段と、 描画する描画パターンを前記電子ビームの照射量情報に変換する手段と、 前記複数の電子ビームを個別にオンオフする手段と、 前記複数の電子ビームが描画する格子形状の中心位置を補正するための補正量を求める手段と、 前記複数のビームの照射位置を独立に制御し、かつ前記補正量を求める手段から受けた補正量に基づいて前記複数の電子ビームの格子形状の中心位置を補正する手段と、 前記格子状に配列された複数の電子ビームの照射位置を一斉に偏向する手段と一斉に偏向する際の偏向形状に傾きの補正を加える手段を具備し、 前記複数の電子ビームが描く前記格子形状および前記偏向形状を補正しながら描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305
FI (5件)：
H01L21/30 541D ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/147 C ,  H01J37/305 B ,  H01L21/30 541W
Fターム (10件)：
2H097BB10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C033GG05 ,  5C034BB04 ,  5F056AA33 ,  5F056CB05 ,  5F056CB13 ,  5F056CC02 ,  5F056CC09
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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