特許
J-GLOBAL ID：200903036561034575
荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数算出方法及び荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数更新方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松山 允之
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-264190
公開番号（公開出願番号）：特開2008-085120
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【目的】補正係数を算出するために費やす時間を短縮することが可能な方法を提供すると共に、補正係数を更新する方法を提供することを目的とする。【構成】電子ビーム描画装置の構成から生じる位置ずれを補正するための近似式の係数を算出する本発明の一態様の電子ビーム描画装置の位置補正係数算出方法は、ステージ上で描画される試料の描画領域に相当する領域全体に規則的に配列された複数のマークを荷電粒子ビームを用いてスキャンするスキャン工程(S102)と、スキャンされた各マークの位置のずれ量を装置の座標系でフィッティングして、フィッティングされた近似式の係数を算出する係数算出工程(S104)と、を備えたことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビーム描画装置のハードウェア構成から生じる位置ずれを補正するための近似式の係数を算出する荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数算出方法において、
ステージ上で描画される試料の描画領域に相当する領域全体に規則的に配列された複数のマークを荷電粒子ビームを用いてスキャンするスキャン工程と、
スキャンされた各マークの位置のずれ量を装置の座標系でフィッティングして、フィッティングされた近似式の係数を算出する係数算出工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数算出方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01J 37/305
, G01B 15/00
H01L21/30 541D
, H01J37/305 B
, G01B15/00 B
2F067AA13
, 2F067AA15
, 2F067BB21
, 2F067BB27
, 2F067CC17
, 2F067FF11
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067PP12
, 2F067QQ02
, 2F067RR12
, 2F067RR29
, 2F067RR31
, 5C034BB07
, 5F056BA08
, 5F056BA09
, 5F056BC01
, 5F056BC06
, 5F056CC01
