特許
J-GLOBAL ID：200903005362450567

荷電ビーム露光装置及び荷電ビーム露光方法

発明者：
中杉 哲郎

中杉 哲郎 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257280
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085303
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】高精度かつ高速にビーム調整を行う。【解決手段】ビーム調整用開口部群15a及びパターン露光用開口部群15bを有する第2アパーチャ15と、パターンを転写すべきウェハ19が載置されたステージ18と、パターン密度をパラメータとして電子ビームの最適なビーム調整パラメータを記憶する描画パラメータテーブル32’を有し、ウェハ19に照射される電子ビームを制御する制御計算機32とを具備してなり、パターン密度に応じた最適なビーム調整パラメータを描画パラメータテーブル32’からパターン毎に選択してパターン転写を行う。
請求項（抜粋）：
パターン密度の異なる複数のパターンを有するマスクと、前記パターンを転写すべき基板が載置されたステージと、パターン密度をパラメータとして前記荷電ビームの最適なビーム調整パラメータを記憶する描画パラメータテーブルを有し、該描画パラメータテーブルに基づいて前記基板に照射される荷電ビームを制御する制御部とを具備してなり、パターン密度に応じた最適なビーム調整パラメータを前記描画パラメータテーブルから前記パターン毎に選択してパターン転写を行うことを特徴とする荷電ビーム露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305
FI (4件)：
H01L 21/30 541 D ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 F
Fターム (16件)：
2H097AA03 ,  2H097BB10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB04 ,  5C034BB07 ,  5C034BB08 ,  5F056AA04 ,  5F056AA06 ,  5F056BA05 ,  5F056BA10 ,  5F056BB01 ,  5F056BB07 ,  5F056BC01 ,  5F056BD03 ,  5F056BD06
引用特許：
審査官引用 (7件)
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