特許
J-GLOBAL ID：200903036574456282
放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 赤堀 龍吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-308854
公開番号（公開出願番号）：特開2006-091906
出願日： 2005年10月24日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】本発明の放射線硬化性組成物は、(a)成分:シロキサン樹脂と、(b)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤と、(c)成分:(a)成分を溶解可能な溶媒と、(d)成分:アルカリ金属類、並びに(d-1)窒素含有化合物と(d-2)アニオン性基含有化合物及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも一種とから形成される塩、からなる群より選ばれる1種以上の硬化促進触媒とを含有してなるものである。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)成分:シロキサン樹脂、
(b)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤、
(c)成分:(a)成分を溶解可能な溶媒、及び
(d)成分:アルカリ金属類、並びに(d-1)窒素含有化合物と(d-2)アニオン性基含有化合物及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも一種とから形成される塩、からなる群より選ばれる1種以上の硬化促進触媒
を含有してなる放射線硬化性組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004
, G03F 7/038
, G03F 7/075
, G03F 7/38
, G03F 7/32
, H01L 21/027
G03F7/004 503Z
, G03F7/038 505
, G03F7/004 501
, G03F7/075 511
, G03F7/38 511
, G03F7/32
, H01L21/30 502R
2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD01
, 2H025BD55
, 2H025BE00
, 2H025CC03
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096EA06
, 2H096EA07
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096JA03
, 2H096LA21
