特許
J-GLOBAL ID:200903037609169393

放射線を利用した光触媒利用型水素・酸素製造方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-241794
公開番号(公開出願番号):特開2003-054902
出願日: 2001年08月09日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【課題】 原子炉等から発生する高レベル放射性廃棄物の処理に関するものである。特に、本発明は、原子炉等から発生する放射性物質を利用して水素・酸素を製造する方法及び装置に関するものである。【解決手段】 本発明は、次の技術的内容を発明の構成要件とするものである。原子炉等で発生した放射性物質はγ・X線を発生しながら放射能が減衰していく。このγ・X線をシンチレータにより可視光線又は紫外線に変換する。この可視光線又は紫外線を光触媒に当てて水を分解し、水素と酸素を製造する。廃棄物が十分低い放射能レベルに減衰するまで水槽内で貯蔵、水素と酸素の製造後に、埋め立て等の通常処理プロセスに送る。製造装置は、水槽内にシンチレータと廃棄物を混合保管する容器を設け、発生した水素と酸素を回収する装置を備えたものであり、従来の貯蔵装置を拡張する程度での建設が可能である。
請求項(抜粋):
γ線やX線などの放射線をシンチレータにより可視光及び/又は紫外光に変換するとともにチェレンコフ光を発生させ、変換された可視光及び/又は紫外光とチェレンコフ光により光触媒で水を分解して水素と酸素を製造することを特徴とする水素・酸素製造方法。
IPC (6件):
C01B 3/04 ,  B01J 23/648 ,  B01J 35/02 ,  C01B 13/02 ,  G21H 3/00 ,  G21H 5/00
FI (6件):
C01B 3/04 A ,  B01J 35/02 J ,  C01B 13/02 B ,  G21H 3/00 L ,  G21H 5/00 Z ,  B01J 23/64 102 M
Fターム (12件):
4G042BA08 ,  4G042BB04 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069BA48A ,  4G069BB06B ,  4G069BC03B ,  4G069BC12B ,  4G069BC55B ,  4G069BC75B ,  4G069CC33 ,  4G069DA06
引用特許:
審査官引用 (10件)
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