特許
J-GLOBAL ID:200903037758298775
pn接合型リン化硼素系半導体発光素子およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柿沼 伸司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-047457
公開番号(公開出願番号):特開2003-249679
出願日: 2002年02月25日
公開日(公表日): 2003年09月05日
要約:
【要約】【課題】リン化硼素系半導体発光素子において、発光層からの第IV族元素の外部拡散を抑制し、発光層内の第IV族元素の原子濃度を発光強度の観点から最適な濃度に維持する。【解決手段】第1のリン化硼素系半導体層と第IV族元素を故意に添加したIII-V族半導体層からなる発光層と第2のリン化硼素系半導体層とからなるpn接合型ヘテロ(異種)接合構造を備えたリン化硼素系半導体発光素子に於いて、第1のリン化硼素系半導体層を、第IV族元素を含むアンドープの第1の伝導形のリン化硼素系半導体から構成し、第2のリン化硼素系半導体層を、第IV族元素を含む第2の伝導形のリン化硼素系半導体層から構成する。
請求項(抜粋):
第1の伝導形の珪素(Si)単結晶からなる基板と、該基板上に設けられた第1の伝導形の第1のリン化硼素系半導体層と、第1のリン化硼素系半導体層上に設けられた、第1または第2の伝導形を有する、元素周期律表上の第IV族元素を故意に添加したIII-V族半導体層からなる発光層と、発光層上に設けられた第2の伝導形の第2のリン化硼素系半導体層とを有し、第1のリン化硼素系半導体層と発光層と第2のリン化硼素系半導体層とからなるpn接合型ヘテロ(異種)接合構造を備えたpn接合型リン化硼素系半導体発光素子に於いて、第1のリン化硼素系半導体層を、第IV族元素を含むアンドープの第1の伝導形のリン化硼素系半導体から構成し、第2のリン化硼素系半導体層を第IV族元素を含む、第1の伝導形とは反対の第2の伝導形のリン化硼素系半導体層から構成したことを特徴とするpn接合型リン化硼素系半導体発光素子。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 33/00 A
, H01L 21/205
Fターム (21件):
5F041AA41
, 5F041AA43
, 5F041AA44
, 5F041CA04
, 5F041CA34
, 5F041CA57
, 5F041CA65
, 5F041CA76
, 5F041CB06
, 5F045AA04
, 5F045AB09
, 5F045AC09
, 5F045AD07
, 5F045AD14
, 5F045AE25
, 5F045AF03
, 5F045BB04
, 5F045BB16
, 5F045CA10
, 5F045DA53
, 5F045DA63
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
特開平3-034537
-
特開平2-275682
-
半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-179198
出願人:株式会社東芝
全件表示
前のページに戻る