特許
J-GLOBAL ID：200903037956959892
極紫外光発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
森脇 正志
, 森脇 康博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-233957
公開番号（公開出願番号）：特開2006-054270
出願日： 2004年08月10日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
【課題】デブリによるコレクターの損傷を効果的に抑制することを可能にする極紫外光発生装置を提供する。【解決手段】放電ガスをキャピラリ11Cに供給する放電ガス導入路10と、同軸円筒状のキャピラリ11Cが中心部に配置されその周囲は絶縁体で作られたキャピラリ構造体11と、前記キャピラリ11Cの両端と接続する陽極12及び陰極13とを備えており、前記キャピラリ11Cの軸上前方にノズル17及びデフューザ18を設け、前記ノズル17からカーテンガスを送出し前記デフューザ18で前記カーテンガスを回収するデブリシールド機構を前記キャピラリ11Cの近傍に設けたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放電ガスをキャピラリに供給する放電ガス導入路と、前記キャピラリが中心部に配置されその周囲は絶縁体で作られたキャピラリ構造体と、前記キャピラリの両端と接続する陽極及び陰極とを備えており、前記キャピラリの軸上前方にノズル及びデフューザを設け、前記ノズルからカーテンガスを送出し前記デフューザで前記カーテンガスを回収するデブリシールド機構を前記キャピラリの近傍に設けたことを特徴とする極紫外光発生装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G21K 5/00
, G21K 5/02
, H05H 1/24
, H05G 2/00
H01L21/30 531S
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
, H05H1/24
, H05G1/00 K
4C092AA04
, 4C092AB19
, 4C092BD18
, 4C092BD20
, 5F046GC03
