特許
J-GLOBAL ID：200903038129313156
浸硫焼入処理、浸硫浸炭処理および浸硫浸炭窒化処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-344056
公開番号（公開出願番号）：特開2001-158955
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】【課題】 焼入れを伴う各種熱処理と浸硫処理との複合処理を一工程で同時に行うことができ、処理コストの大幅な削減が可能な浸硫焼入処理、浸硫浸炭処理、および浸硫浸炭窒化処理方法を提供する。【解決手段】 窒素雰囲気中における焼入温度での均熱保持期間中に、加熱室内に硫化水素ガスを供給することによってワーク表面に浸硫層を生成させ、この状態で焼入れを施す。
請求項（抜粋）：
加熱室内に収納したワークを窒素雰囲気中で所定の焼入温度に加熱したのち、当該焼入温度に均熱保持しながら加熱室内に硫化物を生成するガスを供給しワーク表面に浸硫層を生成させて焼入れすることを特徴とする浸硫焼入処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4K028AA01
, 4K028AA03
, 4K028AC08
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (10件)
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