特許
J-GLOBAL ID：200903038586391782

液状物質滴下装置及び液状物質滴下方法

発明者：
玉井 真吾

玉井 真吾 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 塩川 修治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-194209
公開番号（公開出願番号）：特開2007-007611
出願日： 2005年07月01日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】 液状物質滴下装置又は液状物質滴下方法において、液状物質の滴下精度を向上させること。【解決手段】 ノズル23から液状物質を吐出させて基板1上に滴下する液状物質滴下装置10において、液状物質の温度に基づいてノズル23からの液状物質の吐出を制御する制御装置36を備えたもの。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ノズルから液状物質を吐出させて基板上に滴下する液状物質滴下装置において、 前記液状物質の温度に基づいて前記ノズルからの前記液状物質の吐出を制御する制御装置を備えたことを特徴とする液状物質滴下装置。
IPC (4件)：
B05C 5/00 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/00 ,  B05C 11/10
FI (4件)：
B05C5/00 101 ,  B05D1/26 Z ,  B05D3/00 D ,  B05C11/10
Fターム (29件)：
2H088FA09 ,  2H088FA20 ,  2H088FA30 ,  2H088MA16 ,  4D075AC06 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC92 ,  4D075AC96 ,  4D075DA06 ,  4D075DC24 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AA16 ,  4F041AB01 ,  4F041BA12 ,  4F041BA34 ,  4F041BA47 ,  4F041BA56 ,  4F042AA06 ,  4F042AA27 ,  4F042AB00 ,  4F042BA02 ,  4F042BA19 ,  4F042CA08 ,  4F042CB03 ,  4F042CB11 ,  4F042CB19 ,  4F042CB26
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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