特許
J-GLOBAL ID：200903038951837272

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
中西 潤次

中西 潤次 について

, 
難波 克彦

難波 克彦 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-321711
公開番号（公開出願番号）：特開2003-122013
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：
【要約】【課題】高解像度を維持したまま、非常に高感度化されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)(式中、R1は、酸素原子もしくは窒素原子を含む置換基を有してもよく、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭化水素基を表す。)で示される化合物、(B)それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び(C)第4級アンモニウム塩を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下式(I)(式中、R1は、酸素原子もしくは窒素原子を含む置換基を有してもよく、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭化水素基を表す。)で示される化合物、(B)それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び(C)第4級アンモニウム塩を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C09K 3/00 K ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (16件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (5件)
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