オーバーコートされるフォトレジストと共に用いるためのコーティング組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：千田稔 , 橋本幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-143899
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331951
出願日： 2005年05月17日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：

【課題】基体から、オーバーコートしたフォトレジスト層へ戻る露光放射線の反射を少なくし、および/または、平坦化あるいはビアフィル層として機能することができる組成物および方法を提供する。【解決手段】本発明の好ましいコーティング組成物および方法は、パターン化されたオーバーコートしたフォトレジスト層の解像度の向上を提供することができ、下地のコーティング組成物の層を処理するため、多重の熱処理と共に低活性化温度熱酸発生剤の使用を含む。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

樹脂と、100未満の分子量を有するカチオン成分を含むイオン性熱酸発生剤化合物とを含む下地の有機組成物層;および該有機組成物層上のフォトレジスト層を含むコートされた基体。

IPC (2件)：

G03F7/11 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/11 503 , H01L21/30 574

Fターム (6件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (5件)

反射防止膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-184519 出願人：日産化学工業株式会社
反射防止組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-136712 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
特開平4-162040

全件表示

前のページに戻る