防眩層の形成方法、基材表面の処理方法、防眩層を有する光学フィルム及びそれを用いた画像表示装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-070243
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265649
出願日： 2001年03月13日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、ハードコート層上に防眩性に対して理想的な凹凸を形成する防眩層の形成方法、基材表面の処理方法、防眩層を有する光学フィルム及びそれを用いた画像表示装置を提供することにある。【解決手段】対向する電極間に基材を配置し、大気圧または大気圧近傍の圧力で、該電極間に100kHz以上150MHz未満の周波数を有する高周波電圧を印加して放電プラズマを発生させ、該基材表面に防眩加工を施すことを特徴とする防眩層の形成方法。

請求項（抜粋）：

対向する電極間に基材を配置し、大気圧または大気圧近傍の圧力で、該電極間に100kHz以上150MHz未満の周波数を有する高周波電圧を印加して放電プラズマを発生させ、該基材表面に防眩加工を施すことを特徴とする防眩層の形成方法。

IPC (7件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CEP , B32B 7/02 103 , C08J 7/04 , G02B 1/11 , G02B 5/02 , C08L 1:08

FI (8件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CEP , B32B 7/02 103 , C08J 7/04 L , G02B 5/02 C , G02B 5/02 B , C08L 1:08 , G02B 1/10 A

Fターム (77件)：

2H042BA02 , 2H042BA03 , 2H042BA15 , 2H042BA20 , 2K009AA12 , 2K009AA15 , 2K009BB11 , 2K009BB28 , 2K009CC21 , 2K009CC24 , 2K009DD02 , 2K009DD17 , 2K009EE00 , 4F006AA02 , 4F006AA12 , 4F006AA15 , 4F006AA35 , 4F006AA36 , 4F006AB24 , 4F006BA02 , 4F006CA01 , 4F006DA04 , 4F073AA14 , 4F073AA32 , 4F073BA03 , 4F073BA06 , 4F073BA18 , 4F073BA19 , 4F073BA23 , 4F073BA26 , 4F073BB01 , 4F073CA01 , 4F073CA07 , 4F073CA09 , 4F073CA62 , 4F073CA65 , 4F073CA67 , 4F100AA20C , 4F100AA20H , 4F100AA21C , 4F100AA21H , 4F100AJ06A , 4F100AK01B , 4F100AK25B , 4F100AK53C , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA05 , 4F100BA06 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100CC00B , 4F100CC00C , 4F100DD07B , 4F100DD07C , 4F100DE01B , 4F100DE01C , 4F100DE01H , 4F100EH461 , 4F100EH462 , 4F100EJ601 , 4F100EJ602 , 4F100EJ61B , 4F100EJ61C , 4F100EJ611 , 4F100EJ612 , 4F100GB41 , 4F100JK12B , 4F100JK15B , 4F100JN06C , 4F100YY00B , 4F100YY00H

引用特許：

審査官引用 (5件)

シ-ト状物の連続プラズマ表面処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-005741 出願人：大倉工業株式会社
ポリマー支持体の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-027724 出願人：イーストマンコダックカンパニー
大気圧高周波プラズマによるエッチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-345532 出願人：セイコーエプソン株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

高分子表面の基礎と応用(上), 19880315, 第1版第3刷, 177頁

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