基板処理装置及び基板処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-330095
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101076
出願日： 2003年09月22日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】タクトタイムに基づかない連続搬送制御方式の基板処理装置内において所定の処理ユニットでの処理環境の調整に時間を要する場合であっても、スループット低下を抑制可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】例えば加熱部PHP1においてロット間で処理温度の変更が必要な場合、処理温度の変更完了まで次ロットの最初の基板を加熱部PHP1に近い箇所、例えば基板載置部PASS3にまで搬送してそこで待機させ、処理環境の調整(すなわち処理温度の変更)完了後に、待機中の基板を加熱部PHP1へと搬送する。よって、インデクサIDにて基板を待機させる場合に比べ、処理温度変更後の加熱部PHP1に基板をより早く送り込むことができる。これにより、スループットの低下を抑制できる。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

タクトタイムに基づかずに複数の基板を連続して順次搬送する制御を行う連続搬送制御方式の基板処理装置であって、未処理の前記基板を受け入れて前記基板処理装置内に送り出すインデクサと、前記基板に対して所定の処理を行い、前記所定の処理を行うための処理環境を調整可能な処理ユニットと、前記インデクサの後段かつ前記処理ユニットの前段に位置し、前記インデクサから送り出された前記基板を載置可能な載置手段と、前記載置手段および前記処理ユニットを含む複数のポジションの間で前記基板の搬送を行う搬送手段とを備え、前記処理ユニットは、前記処理環境を調整する場合、調整の完了時に前記搬送手段に対して調整完了の旨を通知し、前記搬送手段は、前記処理ユニットが前記処理環境を調整する場合には、前記基板のうち前記処理ユニットに未達で最先のものが前記載置手段に載置されるまで前記最先のもの以降の基板を搬送してから前記最先のもの以降の基板の搬送処理を停止し、前記調整完了の通知を受けた後に、前記搬送処理を再開することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/68 , B08B3/02 , H01L21/027 , H01L21/304

FI (7件)：

H01L21/68 A , B08B3/02 B , B08B3/02 C , H01L21/304 643A , H01L21/304 648A , H01L21/304 648G , H01L21/30 562

Fターム (42件)：

3B201AA03 , 3B201AB13 , 3B201AB23 , 3B201AB33 , 3B201AB43 , 3B201BB22 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201CD43 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA48 , 5F031HA59 , 5F031JA22 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA03 , 5F031PA04 , 5F031PA30 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046KA04 , 5F046KA10 , 5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平04-113612号公報

審査官引用 (4件)

処理時間の設定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-141558 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-203252 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
半導体製造装置に於ける基板搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-265513 出願人：国際電気株式会社

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