微粒子検出方法、微粒子検出装置、微粒子製造装置、微粒子製造プログラム、記録媒体および固体素子

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：青山葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-086004
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279484
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】物質が含む微粒子の形成状態を安価かつ容易に把握することできる微粒子検出方法、微粒子検出装置、微粒子製造装置および微粒子製造プログラムを提供する。【解決手段】光源101が出射した一定波長の光102をサンプル104に照射し、サンプル104で反射された反射光105の光強度を光強度計106で測定する。この光強度に基づいてサンプル104中の微粒子を検出するので、サンプル104中の微粒子の形成状態を安価かつ容易に把握することできる。

請求項（抜粋）：

一定波長の光に対して非透過性の基板上に形成されると共に、上記波長の光に対して透過性である物質中に存在する微粒子を検出する微粒子検出方法であって、上記物質に上記基板に面する側と反対側から上記波長の光を照射する工程と、上記物質の上記波長の光が入射した側から、上記入射方向と反対方向に出射する光の光強度を測定して、上記微粒子を検出する工程とを備えたことを特徴とする微粒子検出方法。

IPC (4件)：

G01N 21/47 , G01N 15/06 , G01N 21/27 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/47 Z , G01N 15/06 C , G01N 21/27 B , H01L 21/66 J

Fターム (22件)：

2G059AA05 , 2G059BB09 , 2G059BB16 , 2G059CC02 , 2G059CC03 , 2G059EE02 , 2G059GG08 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059HH06 , 2G059JJ02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059MM01 , 2G059MM10 , 4M106AA01 , 4M106CA41 , 4M106DB01 , 4M106DJ20

引用特許：

審査官引用 (4件)

異物粒子の検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-176422 出願人：富士通株式会社
光デイスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-219855 出願人：京セラ株式会社
液晶表示素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-168361 出願人：株式会社日立製作所

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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