洗浄液及び洗浄方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：大谷保 , 東平正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-291733
公開番号（公開出願番号）：特開2007-119783
出願日： 2006年10月26日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：

【目的】被処理物の材質、特に低誘電率膜、9族金属あるいはその合金と11族金属を腐食することなくフォトレジストやその残渣物およびオルガノシロキサン系反射防止膜または形状保護膜等を除去することができる洗浄液とその洗浄方法を提供する。【構成】 0.01〜10重量%の水酸化カリウムおよび/または水酸化ナトリウム、5〜80重量%の水溶性有機溶剤、0.0001〜10重量%の9族金属またはその合金または11族金属の腐食防止剤および水からなる洗浄液で処理する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

0.01〜10重量%の水酸化カリウムおよび/または水酸化ナトリウム、5〜80重量%の水溶性有機溶剤、0.0001〜10重量%の9族金属または9族金属合金または11族金属の腐食防止剤および水からなる洗浄液。

IPC (8件)：

C11D 3/04 , C23G 1/18 , C23F 11/06 , C23F 11/173 , H01L 21/304 , C11D 3/43 , C11D 7/06 , C11D 1/722

FI (10件)：

C11D3/04 , C23G1/18 , C23F11/06 , C23F11/173 , H01L21/304 647A , H01L21/304 647B , H01L21/304 647Z , C11D3/43 , C11D7/06 , C11D1/722

Fターム (31件)：

4H003DA09 , 4H003DA15 , 4H003EA21 , 4H003ED28 , 4H003ED29 , 4H003ED31 , 4H003FA15 , 4K053PA06 , 4K053PA07 , 4K053PA17 , 4K053QA06 , 4K053QA07 , 4K053RA22 , 4K053RA23 , 4K053RA40 , 4K053RA41 , 4K053RA49 , 4K053RA63 , 4K053RA64 , 4K053ZA10 , 4K062AA03 , 4K062BA11 , 4K062BB04 , 4K062BB05 , 4K062BB14 , 4K062BB18 , 4K062BB21 , 4K062BC14 , 4K062CA04 , 4K062FA09 , 4K062FA16

引用特許：

出願人引用 (18件)

特開昭62-49355号公報
特開昭64-42653号公報
特開平4-289866号公報

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審査官引用 (14件)

アルカリ洗浄剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-096356 出願人：三洋化成工業株式会社
自動分析装置用アルカリ性洗剤、自動分析装置、および自動分析装置の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-183458 出願人：株式会社東芝, 東芝メディカルシステムズ株式会社, 東芝医用システムエンジニアリング株式会社
半導体装置の製造方法、及び半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-197553 出願人：三菱電機株式会社

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