特許

J-GLOBAL ID：200903039892980135

現像処理方法及び現像処理装置

発明者： 松山 雄二 ,  長峰 秀一 ,  出口 雅敏 ,  高森 秀之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-012402
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274082
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 既に現像液が供給されている基板上に塗布液供給ノズルから現像液が過って垂れ落ちないようにする。【解決手段】 チャンバー60内にX方向に移動自在に設けられた現像液供給ノズル70が,待機位置Tである洗浄槽85から,X方向正方向に移動を開始する。そして,現像液を供給せずにウェハW上を横切り,ウェハWの端部Pよりも少し進んだ位置P’で停止する。次に,逆方向すなわちX方向負方向に,現像液をウェハWに供給しながら移動する。その後,ウェハWの洗浄槽85側の端部Qより少し進んだ位置Q’で現像液の供給を停止し,現像液供給ノズル70は,洗浄槽85に戻される。

請求項（抜粋）：

所定の位置に載置された基板の対向する両端部間に現像液供給手段を一回移動させることによって,基板表面全面に現像液を供給して,基板を現像処理する方法であって,前記現像液供給手段が,前記基板の一端外方にある前記現像液供給手段の待機位置から少なくとも前記基板の他端まで現像液を供給しないで移動する工程と,その後,前記現像液供給手段が少なくとも前記他端から少なくとも前記一端まで現像液を供給しながら移動する工程とを有することを特徴とする,基板の現像処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

FI (2件)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (9件)：

2H096AA25 ,  2H096GA29 ,  2H096GA30 ,  5F046LA02 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06 ,  5F046LA08 ,  5F046LA13

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-312123   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 現像装置および現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-107671   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-142737   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 現像処理方法及び現像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-074906   出願人：東京エレクトロン株式会社