特許
J-GLOBAL ID：200903040305780801

露光装置及び露光方法

発明者：
小山 元夫

小山 元夫 について

, 
加藤 正紀

加藤 正紀 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 福田 充広 ,  藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-095033
公開番号（公開出願番号）：特開2004-303951
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】配線パターンの設計仕様に応じて配線間隔等を比較的自由に調節することができる露光装置を提供すること。【解決手段】投影部6が投影像の投影倍率を可変とする変倍部分67を備えるので、マスク装置4によって形成されるパターンの投影像を所望のサイズに調整することができる。つまり、マスク装置4に設けた可変パターン生成マスクVMにおいては、周期的に配列された複数の素子のピッチによって段階的なサイズでパターンが形成されるが、プレートPL上に投影像として投影する際に変倍部分67によって投影像のサイズを可変にすることができるので、投影像における配線間隔等の各部寸法を連続的な任意のサイズに調節することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
周期的に配列された複数の素子によって構成される光像形成部を有し、且つ該光像形成部に投影すべきパターンを生成する可変パターン生成装置と、 前記可変パターン生成装置によって生成された前記パターンの像を感光性基板上に投影像として投影する投影手段とを備え、 前記投影手段は、前記投影像の投影倍率を可変とする変倍手段を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P
Fターム (5件)：
5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA02 ,  5F046DA11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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