特許

J-GLOBAL ID：200903040470323750

透明導電膜、及びその製造方法

発明者： 中林 一朗 ,  森賀 俊広 ,  富永 喜久雄
出願人/特許権者： 富永 喜久雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-237715
公開番号（公開出願番号）：特開2004-076094
出願日： 2002年08月19日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】表面平滑性と低抵抗性に優れたZnkIn2Ok+3(kは1〜4の整数。)で表される非晶質のホモロガス化合物からなる酸化亜鉛-酸化インジウム系透明導電膜及びその製造方法を提供すること。【解決手段】ZnkIn2Ok+3(kは1〜4の整数。)で表される非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、250〜500°Cの温度で加熱処理することにより表面の凹凸が10nm以下であるZnkIn2Ok+3(kは1〜4の整数。)で表される非晶質ホモロガス化合物からなる透明導電膜が製造できる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

ZnkIn2Ok+3(kは1〜4の整数。)で表される非晶質ホモロガス化合物からなり、表面の凹凸が10nm以下であることを特徴とする透明導電膜。

IPC (1件)：

C23C14/08

FI (1件)：

C23C14/08 K

Fターム (8件)：

4K029BA50 ,  4K029BB10 ,  4K029BC09 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC16 ,  4K029GA01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 導電性透明基材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-247167   出願人：出光興産株式会社
• 赤外線透過に優れた透明導電膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-239858   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• ダイヤモンドの加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-174171   出願人：住友電気工業株式会社
• 電極基板およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-363774   出願人：出光興産株式会社
• 透明導電膜、及びその形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-150052   出願人：大倉工業株式会社, 中林一朗, 森賀俊広, 富永喜久雄

引用文献：

審査官引用 (1件)

• ZnO-In2O3系透明導電性酸化物