特許
J-GLOBAL ID：200903040923148300
基板洗浄方法、基板洗浄装置及び記憶媒体
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 俊夫
, 三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-096725
公開番号（公開出願番号）：特開2009-252855
出願日： 2008年04月03日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：
【課題】水の静的接触角が85度以上である基板の表面を洗浄するにあたり、高い洗浄効果を得ることができ、しかも洗浄を短時間で行うことができる手法を提供すること。【解決手段】先ず、基板を回転させながら洗浄ノズルから基板の中心部に洗浄液を吐出して遠心力により基板の表面全体に広げる。その後、基板を回転させたまま基板上の洗浄液の吐出位置を、基板の中心部からずれた偏心位置に変更すると共に、洗浄液の吐出位置におけるガス吐出位置側界面と、ガスノズルによるガスの吐出位置における洗浄液吐出位置側界面との距離を9mm〜15mmに設定した状態で前記ガスノズルから前記基板の中心部にガスを吐出して、洗浄液の乾燥領域を形成する。然る後、洗浄液の供給位置を、前記乾燥領域が外に広がる速度よりも遅い速度で基板の周縁に向けて移動させる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
水の静的接触角が85度以上である基板の表面を洗浄する方法において、
基板の中心部と回転中心部とが一致するように基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
前記基板保持部を鉛直軸の回りに回転させながら洗浄ノズルから基板の中心部に洗浄液を吐出して遠心力により基板の表面全体に広げる工程と、
次いで基板保持部を回転させたまま、基板上の洗浄液の吐出位置を、基板の中心部からずれた偏心位置に変更すると共に、洗浄液の吐出位置におけるガス吐出位置側界面と、ガスノズルによるガスの吐出位置における洗浄液吐出位置側界面との距離を9mm〜15mmに設定した状態で前記ガスノズルから前記基板の中心部にガスを吐出して、洗浄液の乾燥領域を形成する工程と、
その後、基板保持部を回転させたまま洗浄液の吐出位置を、前記乾燥領域が外に広がる速度よりも遅い速度で基板の周縁に向けて移動させる工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304
, H01L 21/027
H01L21/304 651L
, H01L21/304 651B
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 648H
, H01L21/30 572B
5F046MA10
, 5F157AA64
, 5F157AA92
, 5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157AB90
, 5F157AC22
, 5F157BB23
, 5F157BB44
, 5F157CB15
, 5F157CC01
, 5F157CE03
, 5F157CE04
, 5F157CE07
, 5F157CE25
, 5F157CF32
, 5F157CF44
, 5F157DB46
