特許
J-GLOBAL ID：200903074084480850

基板洗浄処理装置及び基板処理ユニット

発明者：
横山 俊夫

横山 俊夫 について

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勝岡 誠司

勝岡 誠司 について

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小川 貴弘

小川 貴弘 について

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山田 かおる

山田 かおる について

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前田 和昭

前田 和昭 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (2件)： 大畑 進 ,  栗林 三男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-247070
公開番号（公開出願番号）：特開2006-114884
出願日： 2005年08月29日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】装置の立上げに際して搬送系統の位置決めが必要でなく、装置の設置面積の減少可能な基板洗浄処理装置を提供する。【解決手段】ベース一体型の1つのフレームに、基板を搬送する搬送ロボット2と、基板の処理を行なう基板処理ユニット3、3と、基板収納カセット4、4を載置する基板ロードポート5、5と、基板処理ユニット3、3へ処理液を供給する処理液供給装置6を搭載した。基板処理ユニット3、3を基板収納カセット4、4に対して平行に配置し、乾燥した基板を搬送ロボット2で基板処理ユニット3、3と基板収納カセット4、4の間を搬送するようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ベース一体型の1つのフレームに、基板を搬送する基板搬送装置と、基板の処理を行なう少なくとも1つの基板処理ユニットと、基板収納カセットを載置する基板ロードポートと、前記基板処理ユニットへ処理液を供給する処理液供給装置を搭載し、前記基板処理ユニットのメンテナンスは装置背面から実施できるように構成したことを特徴とする基板洗浄処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (5件)：
H01L21/304 648B ,  H01L21/304 651G ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/306 F
Fターム (5件)：
5F043AA22 ,  5F043BB15 ,  5F043BB27 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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