特許
J-GLOBAL ID：200903041151383282

チタニアドープ石英ガラス、EUVリソグラフィ用部材、EUVリソグラフィ用フォトマスク基板及びチタニアドープ石英ガラスの製造方法

発明者：
毎田 繁

毎田 繁 について

, 
山田 素行

山田 素行 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-318172
公開番号（公開出願番号）：特開2007-182367
出願日： 2006年11月27日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：
【解決手段】3〜12質量%のチタニアを含有し、該チタニアの濃度勾配が0.01質量%/μm以下であり、かつ厚さ6.35mmでの波長440nmにおける見かけ透過率が30%以上であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス。【効果】EUVリソグラフィ用フォトマスク基板等のEUVリソグラフィ用部材に要求される高い表面精度を与える均質性の高いチタニアドープ石英ガラスを提供することができ、チタニアドープ石英ガラスからなるEUVリソグラフィ用フォトマスク基板等のEUVリソグラフィ用部材は平坦度や熱膨張特性に優れたものとなる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
3〜12質量%のチタニアを含有し、該チタニアの濃度勾配が0.01質量%/μm以下であり、かつ厚さ6.35mmでの波長440nmにおける見かけ透過率が30%以上であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス。
IPC (5件)：
C03C 3/06 ,  C03C 3/076 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G03F 1/08
FI (6件)：
C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03B8/04 Z ,  C03B20/00 F ,  G03F1/08 A ,  C03B20/00 K
Fターム (64件)：
2H095BB01 ,  2H095BB11 ,  4G014AH15 ,  4G062AA04 ,  4G062BB01 ,  4G062BB02 ,  4G062DA07 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FB04 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062MM23 ,  4G062MM27 ,  4G062NN30 ,  4G062NN40
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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