特許
J-GLOBAL ID：200903041269001368

化学機械研磨用水系分散体

発明者：
西元 和男

西元 和男 について

, 
菊地 修

菊地 修 について

, 
川橋 信夫

川橋 信夫 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 清路
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-279335
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102334
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 保管、搬送時における粗大な固形物の発生が抑えられ、十分な研磨速度が維持され、スクラッチが発生しない化学機械研磨用水系分散体を提供する。【解決手段】 研磨粒子、両親媒性化合物及び水を含有する水系分散体とする。この両親媒性化合物は、水系分散体と大気との界面に、水の散逸が抑えられる境界膜を形成し、保管時、或いは搬送時における研磨粒子等からなる固形物の発生が防止される。両親媒性化合物としては、脂肪族アルコール類、脂肪酸、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル及びポリエチレングリコールと脂肪酸とのエステル等を使用することができる。この両親媒性化合物としては、親水親油バランスを表すHLB値が0より大きく6以下である化合物が特に好ましい。
請求項（抜粋）：
研磨粒子、両親媒性化合物及び水を含有することを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。
IPC (4件)：
H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14
FI (4件)：
H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z
Fターム (4件)：
3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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