原料加熱装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤岡徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109014
公開番号（公開出願番号）：特開2000-304450
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】熱効率が良く均一な原料の加熱を行うことのできる原料加熱装置を提供することを目的とする。【解決手段】炉蓋11の周囲部に原料供給管12Aと排気管12Bが設けられており、該炉蓋11、周壁13そして炉床14により加熱空間Fを形成し、原料供給管12Aから供給され炉床14上に堆積された原料Mを上記加熱空間Fへ流入せる加熱ガスにより加熱し、炉床14上の原料を落下孔14Aへ向けて押し出すプッシャー16が周壁13で支持されており、炉床の中央部に形成された落下孔14Aから上記炉床上の堆積原料を上記プッシャー16の往復動によって逐次落下せしめる原料加熱装置において、原料供給管12Aと排気管12Bは、軸線方向に見たときに、それらの下端開口がプッシャー16の原料押出し有効域17内にあって同一位置もしくは互に近接した位置に設けられている。

請求項（抜粋）：

炉蓋の周囲部に原料供給管と排気管が設けられており、該炉蓋、周壁そして炉床により加熱空間を形成し、原料供給管から供給され炉床上に堆積された原料を上記加熱空間へ流入せる加熱ガスにより加熱し、炉床上の原料を落下孔へ向けて押し出すプッシャーが炉床の半径方向に往復動可能に周壁で支持されており、炉床の中央部に形成された落下孔から上記炉床上の堆積原料を上記プッシャーの往復動によって逐次落下せしめる原料加熱装置において、原料供給管と排気管は、軸線方向に見たときに、それらの下端開口がプッシャーの原料押出し有効域内にあって同一位置もしくは互に近接した位置に設けられていることを特徴とする原料加熱装置。

IPC (5件)：

F27B 1/10 , F27B 1/20 , F27B 1/21 , F27B 9/18 , F27B 1/04

FI (5件)：

F27B 1/10 , F27B 1/20 , F27B 1/21 , F27B 9/18 R , F27B 1/04

Fターム (16件)：

4K045AA01 , 4K045AA07 , 4K045BA05 , 4K045CA05 , 4K045GB08 , 4K045GD11 , 4K045GD16 , 4K050AA01 , 4K050CA08 , 4K050CA09 , 4K050CA11 , 4K050CA15 , 4K050CD02 , 4K050CD16 , 4K050CG02 , 4K050CG26

引用特許：

出願人引用 (9件)

竪型焼成炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-167123 出願人：株式会社チサキ, 國井大藏
原料の加熱炉装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-340335 出願人：株式会社チサキ
特開昭54-060296

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審査官引用 (1件)

竪型焼成炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-167123 出願人：株式会社チサキ, 國井大藏

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