特許
J-GLOBAL ID：200903041633922180

フォトレジストおよびミクロリソグラフィのための方法

発明者：
フランク レオナルド シャット ザ サード

フランク レオナルド シャット ザ サード について

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マイケル フライド

マイケル フライド について

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ムーカン ペリヤサミ

ムーカン ペリヤサミ について


出願人/特許権者：
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー について


代理人 (1件)： 谷 義一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-578698
公開番号（公開出願番号）：特表2002-528766
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：
【要約】ポジ型フォトレジスト、ならびに関連する紫外光(UV)および青紫色光におけるミクロリソグラフィのための方法が開示される。フォトレジストは、(a)保護された酸基を含有する分枝状ポリマー、および(b)少なくとも1つの光酸発生剤を含む。フォトレジストは、紫外光全体にわたる高い透明度、良好な現像特性、高いプラズマエッチ抵抗性、および他の望ましい特性を有し、および近紫外、遠紫外、および極紫外光における、特に365nm以下の波長におけるミクロリソグラフィのために有用である。
請求項（抜粋）：
ポジ型フォトレジストであって、 (A)保護された酸基を含有する分枝ポリマーであり、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合した1つまたは複数の側鎖セグメントを含む分枝ポリマーと、 (B)少なくとも1つの光酸発生剤とを含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト。
IPC (5件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C08F290/04
FI (5件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/38 ,  C08F290/04 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (31件)：
2H025AA00 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA09 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096EA03 ,  2H096EA04 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4J027AA02 ,  4J027AA08 ,  4J027BA07 ,  4J027CC05 ,  4J027CD10
引用特許：
審査官引用 (6件)
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