特許
J-GLOBAL ID：200903041737550684

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者：
原田 由香子

原田 由香子 について

, 
吉田 勲

吉田 勲 について

, 
高田 佳幸

高田 佳幸 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-292107
公開番号（公開出願番号）：特開2007-145822
出願日： 2006年10月27日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Xは炭素数1〜30の非環式炭化水素又は単環もしくは2環を含む炭素数3〜30の炭化水素の2価又は3価の残基を表し、これらの炭化水素はエーテル結合を含んでいてもよい。A+は有機対イオンを表す。Yは水酸基、シアノ基又はメトキシ基を表し、nは1〜2の整数を表す。式中のXは炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (7件)：
C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C07C 303/22 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C303/22 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (19件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92 ,  4H006AC48 ,  4H006AC61 ,  4H006AC90
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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