特許
J-GLOBAL ID：200903042045053792

平面型光導波路の製造方法

発明者：
石井 裕

石井 裕 について


出願人/特許権者：
株式会社フジクラ

株式会社フジクラ について


代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-327919
公開番号（公開出願番号）：特開2005-092032
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】 コア等の特性を劣化させることなく、コアの直線部と曲がり部とのクラッドに対する屈折率差を異ならせた高精細のパターンを形成する。また膜堆積方法としてFHD法に限らずCVD法等も適用可能とする。【解決手段】 コア層3の曲がり部3d及び3eとその周囲部分に金属膜M1を堆積し、続いて、コア層3を埋め込むように、第1の上部クラッド層4aを堆積する。この堆積された第1の上部クラッド層4a上の、曲がり部3d及び3eの上方を除いた部分に金属膜M2を堆積する。金属膜M2をマスクとして、第1の上部クラッド層4aのうち、曲がり部3d及び3eの上部の部分のみをエッチングする。金属マスクM1及びM2の除去後、第2の上部クラッド層4bを堆積する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
下部クラッド層上に直線部と曲がり部を有するコア層を形成し、このコア層上に上部クラッド層を形成し、前記下部クラッド層、前記コア層及び前記上部クラッド層のいずれかは、少なくとも第1部分と第2部分との間で屈折率が異なるよう屈折率の異なる材質で形成される平面型光導波路の製造方法において、 前記屈折率が異なるように形成される層は、 前記第1部分を含む領域及び前記第2部分を含む領域のうちの一方をマスクするための第1のマスク材と、前記第1部分を含む領域及び前記第2部分を含む領域のうちの他方をマスクするための第2のマスク材とにより形成されることを特徴とする平面型光導波路の製造方法。
IPC (1件)：
G02B6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (5件)：
2H047KA03 ,  2H047KA12 ,  2H047PA05 ,  2H047PA24 ,  2H047TA36
引用特許：
出願人引用 (4件)
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