特許
J-GLOBAL ID：200903098445671610
平面型光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154694
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344630
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 ファイバとの結合損や界面荒れによる導波損,偏波依存性等を大きくすることなく、曲げ損失を効果的に低減した平面型光導波路とその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン基板1に、下部クラッド層2を形成し、この上にコア層3をパターン形成する。コア層3は直線部3a,3bと曲がり部3cを有する。上部クラッド層は、コア層3の直線部3a,3bを覆う第1の上部クラッド層4a,4bと、曲がり部3cを覆う第2の上部クラッド層5とから構成する。第2の上部クラッド層5を、第1の上部クラッド層4a,4bの比べて低屈折率として、コア層3との間の屈折率差を大きくし、曲がり損失を低減する。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板上に形成された下部クラッド層と、この下部クラッド層上に直線部と曲がり部をもってパターン形成されたコア層と、このコア層を覆って形成された上部クラッド層とを有し、前記下部クラッド層及び上部クラッド層の少なくとも一方と前記コア層との間の屈折率差が、前記コア層の曲がり部において直線部よりも大きく設定されていることを特徴とする平面型光導波路。
引用特許：
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