特許
J-GLOBAL ID：200903042169669171

ガス分離用のセラミック膜の製造方法

発明者：
荒木 貞夫

荒木 貞夫 について

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日数谷 進

日数谷 進 について

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三宅 義和

三宅 義和 について


出願人/特許権者：
日立造船株式会社

日立造船株式会社 について


代理人 (4件)： 日比 紀彦 ,  岸本 瑛之助 ,  渡邊 彰 ,  清末 康子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-037262
公開番号（公開出願番号）：特開2007-216106
出願日： 2006年02月14日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：
【課題】中間層に存在する欠陥に起因するピンホールの発生を抑制し、これにより、大型化しても透過係数比が高い優れた品質のガス分離用のセラミック膜を製造する方法を提供する。【解決手段】本発明のガス分離用セラミック膜の製造方法は、気化有機ケイ素化合物含有ガスである材料ガスを、基材のガス分離膜を形成する側に供給し、基材の材料ガスを供給する側の反対側に対向ガスを供給して、該基材の材料ガスが供給された表面上にて基材上に酸化ケイ素からなるガス分離膜を形成させるガス分離用セラミック膜の製造方法において、該材料ガスを加熱および加圧しながら該基材表面上に供給することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
気化有機ケイ素化合物含有ガスである材料ガスを、基材のガス分離膜を形成する側に供給し、基材の材料ガスを供給する側の反対側に対向ガスを供給して、該基材の材料ガスが供給された表面上にて基材上に酸化ケイ素からなるガス分離膜を形成させるガス分離用セラミック膜の製造方法において、 該材料ガスを加熱および加圧しながら該基材表面上に供給することを特徴とするガス分離用セラミック膜の製造方法。
IPC (3件)：
B01D 71/02 ,  B01D 69/12 ,  C23C 16/42
FI (3件)：
B01D71/02 500 ,  B01D69/12 ,  C23C16/42
Fターム (17件)：
4D006GA41 ,  4D006MA06 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006PA03 ,  4D006PB66 ,  4K030AA06 ,  4K030BA44 ,  4K030BA48 ,  4K030CA05 ,  4K030CA15 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030LA11
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 水素選択シリカ膜
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-508937   出願人：コノコフィリップス・カンパニー, バージニアテックインテレクチュアルプロパティーズインコーポレーテッド
  • 水素分離膜およびその製造法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-196228   出願人：エヌオーケー株式会社, 諸岡成治
  • 水素分離膜およびその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-070626   出願人：中尾真一, 野村幹弘, 菅原孝
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