プラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-081309
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268653
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】電磁波を効率良く伝播させることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置は、高周波電源で発生させた電磁波を、電磁波分配用矩形導波管21を経由して電磁波放射用矩形導波管に導入させるとともに、この電磁波を、スロット板14のスロットにより真空容器4内に放射させることで、真空容器4内にプラズマを生成させ、このプラズマよって被処理体をプラズマ処理するものである。電磁波分配用矩形導波管21と電磁波放射用矩形導波管とを、電磁波の伝送側に向かうにしたがって内形寸法が小さくなるように形成された中空の第3の電磁波伝送路によって接続する。第3の電磁波伝送路の内部に、伝送側に向かって拡開するように配置された楔形状の誘電体部材42を設ける。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

処理容器と、電磁波を発振する発振器と、第1の電磁波伝送路と、この第1の電磁波伝送路よりも内形寸法が小さく設定されているとともに、内部に誘電体部材が設けられた第2の電磁波伝送路と、この第2の電磁波伝送路に設けられ、前記処理容器内に電磁波を放射する電磁波放射部とを具備し、前記発振器で発生した電磁波が、前記第1の電磁波伝送路を経由して前記第2の電磁波伝送路に導入されるとともに前記電磁波放射部により前記処理容器内に放射されることによって、前記処理容器内にプラズマが生成され、このプラズマよってプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、前記第1の電磁波伝送路と前記第2の電磁波伝送路とは、電磁波の伝送側に向かうにしたがって内形寸法が小さくなるように形成された中空の第3の電磁波伝送路を介して接続されているとともに、前記第3の電磁波伝送路の内部に、前記伝送側に向かって拡開するように配置された楔形状の誘電体部材を有していることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/31 , C23C16/50 , H01L21/3065 , H05H1/46

FI (4件)：

H01L21/31 C , C23C16/50 , H05H1/46 B , H01L21/302 101D

Fターム (23件)：

4K030FA01 , 4K030KA30 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BB32 , 5F004BD04 , 5F045AA09 , 5F045AB32 , 5F045AC01 , 5F045AC07 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045AF07 , 5F045BB02 , 5F045CA05 , 5F045DP04 , 5F045DQ10 , 5F045EC02 , 5F045EH03

引用特許：

出願人引用 (11件)

特許第2722070号公報
特許第2857090号公報
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-073510 出願人：ミクロ電子株式会社

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