特許
J-GLOBAL ID:200903069435740303
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 寛治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-073510
公開番号(公開出願番号):特開2002-280196
出願日: 2001年03月15日
公開日(公表日): 2002年09月27日
要約:
【要約】【課題】 マイクロ波を利用し、密度の一様性と高密度のプラズマとして大面積のプラズマを発生させるプラズマ発生装置を提供すること。【解決手段】 プラズマ発生室41に複数の導波管42、43、44を等間隔に平行配設すると共に、各々の導波管には先端側に向かって結合係数を順次大きくした結合孔42a〜42c、43a〜43c、44a〜44cを形成し、さらに、プラズマ発生室41には、各々の結合孔に対応して分割形成した誘電体窓45を設け、結合孔各々からプラズマ発生室41内ら放射されるマイクロ波電力を均一化させることにより、密度の一様性と高密度として大面積のプラズマを発生させる構成となっている。
請求項(抜粋):
プラズマ発生室にマイクロ波エネルギ-を供給してプラズマを発生させるプラズマ発生装置において、マイクロ波エネルギ-を供給する複数の導波管を所定間隔で平行配設すると共に、各々の導波管には管軸方向に沿って複数の結合孔を設け、かつ、導波管の先端方向に向って順次位置する結合孔の結合係数を順次大きく形成し、さらに、プラズマ発生室には導波管の各々の結合孔に対応させた複数の誘電体窓を設けて構成したことを特徴とするマイクロ波を利用したプラズマ発生装置。
IPC (5件):
H05H 1/46
, B01J 19/08
, C23C 16/511
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (5件):
H05H 1/46 B
, B01J 19/08 H
, C23C 16/511
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
Fターム (24件):
4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075BC10
, 4G075CA26
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EC07
, 4G075FC15
, 4K030FA01
, 4K030KA30
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F045AA09
, 5F045AB07
, 5F045AC07
, 5F045BB02
, 5F045EH03
, 5F045EH11
引用特許:
審査官引用 (10件)
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-153357
出願人:東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
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プラズマ装置へのマイクロ波導入装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-270104
出願人:株式会社神戸製鋼所
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マイクロ波励起プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-051507
出願人:株式会社東芝
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マイクロ波プラズマ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-062308
出願人:住友金属工業株式会社
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マイクロ波プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-148474
出願人:住友金属工業株式会社, 日本電気株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-171490
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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プラズマ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-176443
出願人:株式会社東芝
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-171495
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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プラズマ発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-331988
出願人:株式会社東芝
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特開平1-222060
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