特許
J-GLOBAL ID:200903042322087004

光ファイバの加工方法および光ファイバ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 藤本 昇 ,  鈴木 活人 ,  薬丸 誠一 ,  中谷 寛昭 ,  大中 実 ,  岩田 徳哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-215472
公開番号(公開出願番号):特開2004-061533
出願日: 2002年07月24日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】本発明は、光ファイバの端部の加工方法を提供することを課題とし、より詳しくは、光ファイバの端面に凹部を形成するための加工方法と、そのように加工された光ファイバを提供することを課題とする。【解決手段】光ファイバの端部をエッチング溶液に浸し、光ファイバ端面に凹部を形成することを特徴とする光ファイバの加工方法による。また、前記光ファイバの加工方法において、前記凹部が略放物面状であることを特徴とする。凹部形成のためには、質量基準でNH4F濃度と同じか又はより高濃度のHFが含まれているエッチング溶液、或いは、HFが含まれNH4Fが含まれていないエッチング溶液を使用する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光ファイバの端部をエッチング溶液に浸し、光ファイバ端面に凹部を形成することを特徴とする光ファイバの加工方法。
IPC (1件):
G02B6/10
FI (1件):
G02B6/10 D
Fターム (1件):
2H050AC87
引用特許:
審査官引用 (8件)
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