特許
J-GLOBAL ID：200903042396616513
反応性イオンエッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-123905
公開番号（公開出願番号）：特開平10-317175
出願日： 1997年05月14日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：
【要約】【課題】本発明の課題は、0.3μm幅以下の微細加工においてエッチストップを発生させることなくエッチングできる反応性イオンエッチング装置を提供することにある。【解決手段】本発明による反応性ドライエッチング装置においては、プラズマ発生用アンテナを並列多重巻きにして高周波電力を印加して有効な誘導電場を形成できるように構成される。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に放電プラズマを発生するための高周波コイルを備えたプラズマ発生手段を有し、ハロゲン系のガスを主体とする気体を真空チャンバー内に導入し、低圧でプラズマを形成するとともに導入気体を分解し、発生した原子、分子、ラジカル、イオンを積極的に利用し、プラズマに接する基板電極に交番電場或いは高周波電場を印加して電極上に載置された基板をエッチングする誘導結合放電型反応性イオンエッチング装置において、真空チャンバーの頂部を円板状の誘電体で構成し、誘電体で構成された真空チャンバーの頂部上に、放電プラズマを発生するための立てに並列多重の高周波コイルを配置したことを特徴とする反応性イオンエッチング装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
C23F 4/00 G
, H05H 1/46 A
, H01L 21/302 B
